项目名称：   原子层沉积   项目编号：   WSJJ******

公告开始日期：   2025-01-02 14:50:46   公告截止日期：   2025-01-05 16:00:00

采购单位：******大学   付款方式：   国产-甲方预付货款的20%，待货到甲方验收合格，乙方出具全额正规发票后，甲方一次性支付剩余货款。

签约时间要求：   校方合同审核完成后3天内   到货时间要求：   签订之日起3个工作日内

预算总价：   ￥460000.00

收货地址：******大学(长安校区)

采购商品：   原子层沉积系统   采购数量：   1   计量单位：   台   所属分类：   控制设备

品牌：   科纳迪

型号：   ALD-T100B

预算单价：   ￥460000.00

技术参数及配置要求：   （1）4英寸硅片上沉积300cycle氧化铝非均匀性<±1%；（2）最高300℃沉积温度，温度控制精度±0.5℃；（3）高精度膜厚控制(0.1 nm/cycle，精度±0.5 A)；（4）真空系统极限≤1 Pa，系统漏率≤6*10-10Pa.m3/s；（5）4 路源：3路加热金属前驱体源和1路水源，配备专用ALD 阀门、手动隔膜阀以及前驱体源源瓶；（6）操作简单，具备Windows兼容的自动控制软件。

售后服务：   电话支持:7x24小时;质保期:1年;响应时间:报修后12小时;商品承诺:原厂全新未拆封正品、 送货上门/安装调试/技术培训;